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膜厚儀的特點(diǎn)及技術(shù)參數(shù)

        膜厚儀又稱膜厚儀、膜厚測(cè)試儀。分為磁感應(yīng)涂層測(cè)厚儀、渦流涂層測(cè)厚儀、熒光X射線涂層測(cè)厚儀。使用磁感應(yīng)原理時(shí)，涂層的厚度是通過從探頭通過非鐵磁涂層流入鐵磁基體的磁通量的大小來測(cè)量的。也可以測(cè)量相應(yīng)磁阻的大小來表示涂層的厚度。
        可用于在線膜厚測(cè)量、氧化物、感光保護(hù)膜、半導(dǎo)體膜等。它還可用于測(cè)量涂在鋼、鋁、銅、陶瓷和塑料上的粗糙薄膜層。薄膜表面或界面 反射光會(huì)干擾來自基材的反射光。干涉的發(fā)生與薄膜的厚度和折射率有關(guān)，因此可以計(jì)算薄膜的厚度。光學(xué)干涉儀是一種無損、快速的光學(xué)薄膜厚度測(cè)量技術(shù)，薄膜測(cè)量系統(tǒng)利用光學(xué)干涉原理來測(cè)量薄膜的厚度。
        膜厚儀的特點(diǎn)
        1、可測(cè)量多層膜中各層的厚度
        2、三維厚度剖面
        3、遙控及在線測(cè)量
        4、可以做大范圍150mm或300mm的掃描測(cè)試

        5、豐富的素材庫：操作軟件的素材庫有大量素材的n、k數(shù)據(jù)，基本常用素材都包含在這個(gè)素材庫中。用戶還可以輸入材料庫中沒有的材料。

         6、軟件操作簡(jiǎn)單，測(cè)量速度快：膜厚測(cè)量?jī)x操作非常簡(jiǎn)單，測(cè)量速度快： 100ms-1s。

         7、軟件具有建筑材料結(jié)構(gòu)擴(kuò)展功能，可對(duì)單/多層薄膜數(shù)據(jù)進(jìn)行擬合分析，可進(jìn)行薄膜材料的預(yù)仿真設(shè)計(jì)。
         8、軟件具有可升級(jí)的掃描功能，對(duì)薄膜進(jìn)行二維測(cè)試，并以2D或3D形式顯示結(jié)果。軟件的其他升級(jí)功能包括在線分析軟件、遠(yuǎn)程控制模塊等。
        膜厚儀技術(shù)參數(shù)
        測(cè)厚：10nm-250um； 250nm-1100nm之間任意波長可選擇，在此范圍內(nèi)也可選擇多波長分析；
        波長：250 -1100nm
        厚度范圍：10nm--250m
        分辨率：0,1nm
        重復(fù)性：0,3n米
        準(zhǔn)確率：<1[%] (100nm--100m)
        測(cè)試時(shí)間：100ms -- <1s
        分析層數(shù)：1-- 4
        距離光纖：1-5mm
        與光纖的距離：5mm-- 100mm
        入射角：90°
        光斑尺寸：400m